Page 267 - Zur Reinheit funktionaler Oberflächen

14.9 Literatur [1] Hsu, Chia-Yu ”Clustering Ensemble for Identifying Defec-
tive Wafer Bin Map in Semiconductor Manufacturing”,
Dept. of Information Management and Innovation Center
for Big Data and Digital Convergence, Yuan Ze University,
Chungli, Taoyuan 32003, Taiwan, 2015
[2] Baltzinger, Jean Luc, Delahaye, Bruno ”Contamination
Monitoring and Analysis in Semiconductor Manufacturing”,
Altis Semiconductor France page 59, table 1: Description
of Contamination Source and Wafer Effects, Semiconduc-
tor Technologies, Ed. Jan Grym, ISBN 978-953-307-080-3
Publisher: Intechopen (1. April 2010)
[3] McIlvane Cleanrooms ”Cleanroom Spending dominated by
Asia for forseeable future”, Solid State Technology-Maga-
zin, August 25, 2011
[4] Labuda, W. ”Reinheit als Systemparameter”, ReinRaum-
Technik 3/2002, GIT-Verlag, Darmstadt
[5] Fissan, H., Opiolka, S. „Korrelation zwischen Gas- und
Oberflächen-Reinheit“, VDI-Berichte 693, München, 1988
[6] Smithonian Institution ”The chip collection”, Internet
publication by Integrated Circuit Engineering Corporation,
Chapter 3, Yield and Yield Management, 1999
[7] Duvernell, F. „Ein kostspieliges Ereignis? Qualifizierte
Reinraumreinigung“, ReinRaumTechnik 2/2011, Wiley-
VCH Verlag, Weinheim
[8] Kassenbeck, P., Marfels, H. „Beitrag zur Kenntnis der Art
und Verteilung von Oligomeren in Polyesterfasern“, Insti-
tut für angewandte Mikroskopie, Photographie und Kine-
matographie, Karlsruhe-Waldstadt, Lenzinger Berichte
Folge 43, Mai 1977
[9] Lamprecht, M. „Wann ist ein Reinraumhandschuh ein
Reinraum-Handschuh?“, reinraum online 04/2012
[10] Schlesinger, A. „Why we must protect planetary envi-
ronments“ aus „When Biospheres Collide - A History of
NASA‘s Planetary Protection Programs“ zusammengefasst
von Michael Meltzer, Herausgeber: NASA Administrator,
2010
[11] Labuda, W., Haupt, S. „Visualisierung von Mikro-Verunrei-
nigungen - Kollektor-Platte für Flüssigkeits-Rückstände,
Materialabdrücke und Partikel“, ReinRaumTechnik 2/2017,
Wiley-VCH Verlag, Weinheim
[12] Labuda, W., Hermans, L., Kiggen H. J. „Reinraum-
Verbrauchsmaterial - Kontaminationsquelle im reinen
Fertigungs-Prozess?“, ReinraumTechnik 4/2015, Wiley-
VCH Verlag, Weinheim
[13] Hermans, L., Labuda, W. „Elektrische Oberflächen-Ladun-
gen im Reinraum-Betrieb“, ReinRaumTechnik 1-3/2005
GIT-Verlag, Darmstadt
[14] Schütz, W., Schubert, H. „Einfluß der Umgebungsfeuchte
auf die Partikelhaftung“, Chemie Ingenieur Technik,
Vol. 52, Ausgabe 5, 1980

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