Page 130 - Zur Reinheit funktionaler Oberflächen

von textilen Produkten der Reintechnik auf dem Umweg über
Luft, Partikel oder Medien auf die Produkt-Oberfläche gelan-
gen kann. Zumindest lässt es sich nicht ausschließen, dass
Ionische Kontaminanten z. B. als Teil von TDH - time depen-
dent haze ihren Ursprung auch in den textilen Werkstoffen
der Reintechnik haben. Tatsache ist es, dass beispielsweise
ein Fertigungsbedarf von 1 Million Reinigungs-Tüchern per
annum etwa 105.000 m textilen Flächen-Materials bedeu-
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ten, dass von den Instandhaltern und Reinigungskräften nicht
nur berührt, sondern auch bewegt und dabei gestresst wird.
Hinzu kommen bei einer Halbleiter-FAB mit 500 Mitarbeitern je
Schicht 820.000 m pro Jahr an ständig bewegter Overall-Flä-
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che, wenn man mit 1,5 m Textilfläche für einen Durchschnitts-
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Overall kalkuliert. Werden die Handschuhe hinzugerechnet und
die Stiefel, so ist es nicht unwahrscheinlich, dass ein Reinraum
für 500 Mitarbeiter pro Schicht p. a. von einer Textilfläche in
der Größenordnung 1 Mio. m „durchwandert“ wird.
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Die Wahrscheinlichkeit, dass es hierbei zur Partikel- und in
diesem Zusammenhang auch zur Absonderung von Ionen
kommt, ist theoretisch nicht abwegig aber aus der Erfahrung
heraus auch nicht bedrohlich. So lange Wafer-FABs - und das
ist heute Standard - mit 98 % Yield (Prozess- und Produkt-
ausbeute) arbeiten, ist ionische Kontamination offenbar kein
generelles Problem. Es gibt jedoch einzelne Kontaminanten,
die in einer Halbleiter-FAB prinzipiell unerwünscht sind. Dazu
gehören beispielsweise die Ionen Cl und Fe.
Andererseits: Die bekannten Wischmittel-Hersteller dekon-
taminieren einen Teil ihrer Gestrick-Tücher sehr sorgfältig
und garantieren oft auch bestimmte Grenzwerte der Ionen-
last. Wenn es bei einzelnen Applikationen für angemessen
gehalten wird, so können ja Tücher Einsatz finden, die eine
nachgewiesenermaßen geringe Ionenbelastung aufweisen.
Und nicht zuletzt: Messort ist in diesem Fall - ähnlich wie bei
der Partikelbestimmung nach der US-Spezifikation IEST-RP-
CC004.4 - das Reinigungstuch. Sinnfälliger Bezugsort für eine
solche Messung ist jedoch diejenige Oberfläche, deren Reinheit
herbeigeführt werden soll. Zwischen dem Ioneninhalt eines
Tuchs und dem Ionenrückstand auf der Objekt-Oberfläche
liegen mehrere Größenordnungen.

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