Page 308 - Zur Reinheit funktionaler Oberflächen

Abb. 4 Atomkraft-Mikroskopische Aufnahme einer gezielt mit Abb. 5 Atomkraft-Mikroskopische Aufnahme einer mit dem
Gold-Nanopartikeln (Durchmesser 50 nm) verunreinigten Prüf- HiTech-Reinigungstuch Typ SONIT MDM im trockenen Tuch-Zu-
Oberfläche. Der Auftrag der Nanopartikel erfolgte mittels Spin- stand gereinigten Prüf-Oberfläche, die zuvor mit Gold-Nano-par-
Coaters. tikeln (50 nm) verunreinigt wurde. Die Anzahl der Nanopartikel
und -Agglomerate nahm durch die Wischprozedur von 1310 auf
1010 ab (Reinigungs-Leistung 22,9 %). Bildbreite 50 µm.

Abb. 6 Atomkraft-Mikroskopische Aufnahme einer mit dem Abb. 7 Atomkraft-Mikroskopische Aufnahme einer mit dem
HiTech-Reinigungstuch Typ SONIT MDM im feuchten Tuch-Zu- HiTech-Reinigungstuch Typ MICROWEB UDG-1 im trockenen
stand gereinigten Prüf-Oberfläche, die zuvor mit Gold-Nanoparti- Tuch-Zustand gereinigten Prüf-Oberfläche, die zuvor mit Gold-
keln (50nm) verunreinigt wurde. Die Anzahl der Nanopartikel und Nanopartikeln (50 nm) verunreinigt wurde. Die Anzahl der Na-
-Agglomerate nahm durch die Wischprozedur von 1310 auf 107 nopartikel und -Agglomerate nahm durch die Wischprozedur von
ab (Reinigungs-Leistung 91,8 %). Bildbreite 50 µm. 1310 auf 19 ab (Reinigungs-Leistung 98,5 %). Bildbreite 50 µm.

Reinigungstuch

1 µm
Nanopartikel

Abb. 8 Atomkraft-Mikroskopische Aufnahme einer mit dem Abb. 9 Oberflächen-Topographie, 1 µm Topographie-Ausschnitt
HiTech-Reinigungstuch Typ MICROWEB UDG-1 im feuchten Tuch- im Vergleich zu Nanopartikel-Durchmesser von 50 nm.
Zustand gereinigten Prüf-Oberfläche, die zuvor mit Gold-Nanop-
artikeln (50 nm) verunreinigt wurde. Die Anzahl der Nanopartikel
und -Agglomerate nahm durch die Wischprozedur von 1310 auf
13 ab (Reinigungs-Leistung 99,0 %). Bildbreite 50 µm.

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