Page 309 - Zur Reinheit funktionaler Oberflächen
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19.4 Instrumentarium für die                Für die von uns durchgeführten Versuche stand uns
           Nanotechnik                                 das nachstehend beschriebene Instrumentarium zur
                                                       Verfügung:

                                                       1- Atomkraft-Mikroskop (max Auflösung = 10 nm)
                                                       2- Nano-Partikelzähler (max Auflösung = 2 nm)
                                                       3- piezoelektrische Waage (max Auflösung = 400 pg)
                                                       4- Laser-Fluoreszenz-Spektrometer (max Auflösung =
                                                         submolekular)
                                                         (Raleigh-Streuung) oder bis zu etwa 50 nm nach dem
                                                         Coulter-Prinzip.
                                                       Rotationsbeschichter
           Abb. 10 Linear-Wischsimulator Mark I nach Labuda  Zu den Versuchen mit der Abbildung von Nanopartikeln war es
                                                       nötig zunächst einmal eine endliche Anzahl von Nanopartikeln
                                                       gleichmäßig über einer geeigneten (ultrareinen) Oberfläche zu
                                                       verteilen, was mit einem Rotationsbeschichter gut gelang.
                       Detektor und
                      Steuerelektronik
                                                       Wisch-Simulatoren (Abb. 10)
                             Photodiode                Mit Wisch-Simulatoren die speziell für diesen Zweck entwickelt
                                     Laser             wurden konnte der Reinigungseffekt verschiedener HiTech-Rei-
                                                       nigungs-Tücher in den Zuständen feucht und trocken und nach
                                                       ihrer Maschendichte bestimmt werden.


                                     Cantilever        Atomkraft-Mikroskop (Abb. 11)
                   Probenoberfläche  mit Spitze        Funktion: Eine Prüfoberfläche wird unter einer Cantilever-
                                                       Spitze bewegt. Sie tastet die Oberfläche systematisch in
                                  XY-Tisch             der z-Richtung ab, während ein Laserstrahl die Position der
                                                       Cantilever-Spitze auf eine Photodiode reflektiert. So wird ein
                                                       elektrisches Signal erzeugt, das durch Abtastung zur Höhen-
                                                       Abbildung der abgetasteten Oberfläche genutzt werden kann.

                                                       Nanopartikel und ihre Haftung
                                                       Zwischen Oberflächen und daran angelagerten Partikel wirken
                                                       unterschiedliche Haftkräfte. Krupp [2] definiert sie als die im
                                                       Schwerpunkt von Partikeln angreifenden Minimalkräfte, die
                                                       zur Trennung von Partikel und Substrat erforderlich sind. Das
                                                       sind im Wesentlichen: van der Waals-Kräfte, Kapillarkraft,
                                                       chemische Bindungskräfte und Gravitationskraft. Außerhalb
                                                       der Betrachtung der Partikelhaftung an Oberflächen sollen hier
           Abb. 11 AFM – Atomkraft-Mikroskop Funktion und   jedoch auch die Bindungsarten zwischen Feststoffpartikeln
           Cantilever-Spitze                           erwähnt werden.

           19.5 Fazit der Versuche                     •  50 nm-Nano-Partikel sind durch ausgewählte HiTech-Reini-
                                                         gungs-Tücher effizient entfernbar.
                                                       •  10 nm-Partikel sind durch HiTech-Reinigungs-Tücher nicht
                                                         sicher entfernbar.
                                                       •  Zunehmende Oberflächenrauigkeit korreliert mit abnehmen-
                                                         der Reinigungs-Effektivität.
                                                       •  Oligomerablösung aus der PET-Matrix: ausgelöste Partikel
                                                         müssen noch untersucht werden.


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