Page 116 - Zur Reinheit funktionaler Oberflächen

Abb. 20 Substrat: beschichtetes Silikatglas, Walz-Auftrag einer Abb. 21 Substrat: beschichtetes Silikatglas nach Reinigung mit-
Ölschicht. tels trockenem Reinraum-Tuch

In der täglichen Forschungspraxis ist das Gerät für uns dann
hilfreich, wenn wir beispielsweise feststellen wollen, wie effek-
tiv unterschiedliche Lösungsmittel beim wischenden Entfernen
ölhaltiger Verunreinigungen mittels Viskosetüchern sind. Auch
ist es immer wieder von großem Nutzen festzustellen, welche
Filament-Durchmesser der Reinigungs-Gestricke bei welchen
Verunreinigungsarten die höchsten Reinigungs-Effektivitäten
erzielen. Solche Optimierungsarbeiten gestalten sich weit
weniger aufwändig als wenn man kein solches Gerät zur Ver-
fügung hätte. Ob sich der Kosten-Aufwand für solche Geräte
lohnt mag dahingestellt sein. Das Ellipsometer ist jedoch
das einzige Gerät, durch dessen Einsatz wir im Nanometer-
Schichten-Bereich innerhalb von Minuten in Bezug auf den
Masse-Abtrag von HiTech-Wischmitteln aussagefähig sind,
insbesondere bei Einsatz der Mapping-Topographie. Nachteile
dieser Messmethode liegen neben ihrem hohen Geräte-Kosten-
Aufwand insbesondere darin, dass sich damit zuverlässige
Messergebnisse lediglich auf absolut glatten Oberflächen erzie-
len lassen und dass mit Hilfe dieser Methode lediglich sehr gut
ausgebildete Ingenieure sinnvolle Ergebnisse erzielen können.

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