Page 114 - Zur Reinheit funktionaler Oberflächen

Im Bereich der Material-Wissenschaften findet die DIC-Mik-
roskopie in der Metallurgie und im Rahmen der Prüftechnik in
der Halbleiter-Produktion ihren Einsatz - beispielsweise zur
Visualisierung von Oberflächen-Schäden. Auch wir als HiTech-
Wischmittel-Hersteller machen von dieser Visualisierungs-
Methode Gebrauch.

Das DIC-Mikroskop leistet uns insbesondere dort gute Dienste,
wo schichtförmige Oberflächen-Kontaminanten wie Öl-, Fett-
und TDH (time-dependent-haze) kontrastreich abzubilden
sind. Gleichzeitig lassen sich mittels DIC einzelne, in den
Oberflächenfilm eingebundene Partikel selektieren zählen und
betrachten.

So ist es beispielsweise möglich, das Mikroskop zur Visualisie-
rung der Reinigungs-Effektivität von HiTech-Wischmitteln zu
nutzen. Dazu wird ein geeignetes Substrat mit einer dünnen
Ölschicht beliebiger Dicke versehen, dann mit unterschiedli-
chen Wischmitteln und einer Anzahl von Wischzyklen gereinigt.
Mit der DIC Mikroskopie kann dann die verbliebene Verunreini-
gung sichtbar gemacht werden
Auf diese Weise lässt sich das für eine bestimmte Kontamina-
tions-Schicht geeignetste Wischmittel auf unterschiedlichen
Oberflächen experimentell ermitteln. Auch ist es zur schnellen
Visualisierung von Produktreinheit im Oberflächenbereich leicht
möglich HiTech-Wischmittel - aber auch andere HiTech-Ver-
brauchsmaterialien wie Handschuhe, Overalls, Mopps, Rein-
raum-Verpackungs-Material oder flexible Produkte aus dem
Pharma- und Medizin-Bereich zu untersuchen. Dazu werden
sie kurzzeitig unter hohem Druck von z. B. 8 bar an eine
Glas- oder polierte Metalloberfläche gepresst. Danach lässt
sich mittels DIC-Mikroskopie leicht feststellen, ob sich Spuren
chemischer Rückstände der geprüften Verbrauchsmaterial-Pro-
dukte auf der Testoberfläche abgebildet haben. Dies wäre ein
Zeichen für vorhandene Rest-Kontamination auf der Oberfläche
der untersuchten Objekte.

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