Page 189 - Zur Reinheit funktionaler Oberflächen

Visualisierung
Um den Tropfenrand sichtbar zu machen, ist Schräglicht not-
wendig. Mit Hilfe von Mikroskop und Kamera kann dann der
Tropfenrand fotografiert und ausgewertet werden.

Tropfenrand
Mit einer Software wie „Zeiss AxioVision“ kann der Tropfenrand
auch vermessen werden. Anschließend werden die Ergeb-
nisse gespeichert und stehen der weiteren Bearbeitung zur
Verfügung.

10.5 Ergebnisse • Die Versuche zeigten, dass die grobe Beurteilung von
Lösungsmittel-Verunreinigung anhand der Tropfen-Randdicke
möglich ist.
• Auf die Kollektor-Platte übertragene Material-Abdrücke geben
Aufschluss über den Reinheits-Zustand von Produkt-Oberflä-
chen (Overalls, Reinraum-Tücher, Handschuhe und andere
flexible Flächengebilde) (siehe Abb. 5).
• Es zeigten sich nach wischenden Reinigungsvorgängen deut-
liche Schlieren in Abhängigkeit vom Dekontaminations-Grad
der benutzten Reinraum-Tücher
• Die Kollektor-Platte ist zur Visualisierung von partikulären
Verunreinigungen - wie von Sedimentation - gut geeignet.
Der Vorteil der beschriebenen Visualisierungs-Methoden liegt
in deren universeller Einsetzbarkeit, Einfachheit, Schnelligkeit,
Abb. 6 Abreinigung eines Fingerabdrucks mit ei- und in ihrem relativ geringen Preis. Insbesondere die Schät-
nem trockenen Polyester-Tuch der Maschendichte zung der Masse nicht-flüchtiger Rückstände in reinen Lösungs-
300. Nach einmaligem Wischen bleiben deutliche mitteln ist messtechnisch nur mit erheblichem Aufwand
Schlieren zurück.
möglich. Der Nachteil dieser Indikator-Methoden zeigt sich in
ihrer nicht gegebenen Skalierbarkeit. Es handelt sich um Indi-
kations- nicht hingegen um Messmethoden.

Abb. 6, 7 (Fingerabdruck und seine Abreinigung) und die
nachstehende Übersichtstafel (Abb. 8) mit vielen Versuchs-
ergebnissen zeigen die vielseitigen Einsatzmöglichkeiten der
Kollektor-Platte

(Zu diesem Thema hat Herr Stefan Haupt, Clear & Clean,
Werk für Reintechnik GmbH am 31.01.2017 während der Ver-
anstaltung „Lounges 2017“ in Stuttgart einen Vortrag gehalten
und einen weiteren am 06.01.2018 bei den „Lounges 2018“ in
Karlsruhe.)
Abb. 7 Abreinigung des unteren Abdruck-Teils
mit n-Hexan und dekontaminiertem Reinigungs-
tuch der Maschendichte 1056. Die Oberfläche ist * Patentschrift Winfried Labuda, Yuko Labuda,
sichtbar rein. Nr. DPMA 10 016 832.9-09 „Substrat zur Sichtbarmachung
von daran angelagerten Partikeln und/oder Materialschichten.
Priorität 3.4.2000

10.6 Literatur [1] Deegan, R. D. et al. Nature 389, 827-829

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