Page 46 - Zur Reinheit funktionaler Oberflächen

1) Van-der-Waals-Kraft 2) Elektrostatik-Kraft A + B 3) Kapillarkraft
Temporäre Temporäre Temporäre
Polarisations-Bindung elektrische Haftung Benetzungs-Bindung

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Partikel Partikel, Partikel
Isolator

δ + δ + δ + δ + δ + Fluid
-
- -
δ δ δ - δ - δ - - - - - - - - - - - - - - - - - -
Oberfläche Oberfläche Isolator Oberfläche
A R 1 R 2 · π · d · · cos θ
γ
· ·
F = H + F = π · φ φ 2 d² F = l
1
6a ² 1 + R 1 + 1,485 R q ² el,N ε ε · 0 2 Kap a
O
1,485 R q a O 1 + δ max
Formel 1: Formel 2*: Formel 3*:
Partikelhaftung durch Van-der-Waals-Kräfte Elektrostatische Anziehung zwischen Kapillarische Anhaftung feuchter
unter Berücksichtigung der Oberflächen- einem geladenen Partikel und einer Ober- Partikel an eine Oberfläche
Rauheit, nach dem Rumpf-Modell fläche
* Formel aus Dissertation Dr.-Ing. B. Weigl
Abb. 4 Schema: Mögliche Haftkräfte zwischen Partikeln und Oberflächen

3.6 Handhabungszyklen der wischenden Die wischende Reinigungs-Prozedur mit einem Lösungsmittel-
Reinigungs-Prozedur getränkten HiTech-Reinigungs-Tuch ist im HiTech-Bereich auf
die folgenden Arbeits-Zyklen gestützt:

H1- Öffnen der Wischmittel-Verpackung (2 von 10)
kaum Partikelfreisetzung

H2- Herausziehen eines Wischmittels aus der Verpackung
oder einem Spender (3 von 10)
Partikelfreisetzung durch Abstreifen an den
Verpackungs-Rändern

H3- 2maliges mittiges Falten des Tuchs (2 von 10)
geringe Partikelfreisetzung durch Biegebelastung

H4- Tuch festhalten und mittels Spritzflasche mit Lösungs-
mittel tränken (1 von 10)
kaum Partikelfreisetzung

H5- wischendes Reinigen der Objektoberfläche (10 von 10)
mittlere bis sehr starke Partikelgenerierung durch
Flächen/Kantenabrieb in Abhängigkeit von der Ober-
flächen-Topographie und deren Kurtosis
H6- Entsorgen des Wischmittels (1 von 10)
mögl. Partikelgenerierung durch Knüllen

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