Page 216 - Zur Reinheit funktionaler Oberflächen

12.7 REINHEITS-PRÜFSYSTEME

12.7.4 Rotations-Wischsimulator Mark III nach Labuda

Labuda und Schöttle haben im Jahre 2007 den Rotations-Wischsimulator
Mk III vorgestellt, mit dem die Messung der Reinigungs-Effektivität von
unterschiedlichen HiTech-Reinigungs-Tüchern nun für niederviskose Ver-
unreinigungen (Mineralöl) möglich ist. Eine rotierende Walze aus VA-Stahl
und von definierter Oberflächen-Rauigkeit wird durch Auftrag eines dünnen
Ölfilms gezielt verunreinigt. Der Abtrag des Ölfilms durch ein an die rotie-
rende Walze angepresstes Reinigungstuch (Prüfling) wird kontinuierlich
mittels Laser-Fluoreszenz-Messung gemessen. Mit der gleichen Apparatur
ist es außerdem möglich, die Reinigungs-Effektivität von HiTech-Reinigungs-
Tüchern pro Zeiteinheit zu bestimmen. So können erstmalig Leistungs-
parameter für Reinigungs-Tücher definiert werden. Dadurch lassen sich
HiTech-Reinigungs-Tücher z. B. nach Präzisions-, Fein- und Standard-Reini-
gungs-Tüchern klassifizieren.

12.7.5 Walk-Simulator Mark I nach Schöttle und Labuda

Labuda und Schöttle entwickelten in den vergangenen 30 Jahren verschie-
dene Simulatoren zur Bestimmung der Handhabungs-induzierten Partikelfrei-
setzung von Reintechnik-Verbrauchsmaterial. Der Fokus bei der Entwicklung
lag auf der realitätsnahen und reproduzierbaren Simulation verschiedener
Handhabungs-Schritte von HiTech-Reinigungs-Tüchern und -Papier. Anhand
der Ergebnisse kann bei Reinigungs-Anwendungen wie beispielsweise bei
Wischvorgängen über Kanten und topographisch spezielle Oberflächen das
passende HiTech-Reinigungstuch ausgewählt werden. So ermöglicht die
Prüfung mit dem Walk-Simulator Mark I Reinigungs-Tücher mit unbefestigten
Kanten zu testen bei denen die Freisetzung großer Partikel und Faserfrag-
mente einen größeren Anteil an der Gesamt-Partikelfreisetzung hat.

12.7.6 Streulicht Partikel-Visualisierung
Duale Schräglicht-Lampe zur Visualisierung von Partikeln, Faserfragmenten
und Material-Abdrücken auf Kollektor-Platten (1) und beliebigen glatten
Oberflächen (2). Mit dieser Lampe kann auf einfache und schnelle Weise
die Partikel-Abgabe von verschiedenen HiTech-Tüchern untersucht werden.
Ggf. kann auch der Verdampfungs-Rückstand von Lösungsmitteln sichtbar
gemacht werden. Das Gerät wird idealerweise mit der C&C-Kollektor-Platte
CC 900 kombiniert. Das Gerät lässt sich zudem auf der Bühne eines Mikro-
skops platzieren, so dass die auf der Kollektor-Platte befindlichen Teilchen,
Spuren etc. betrachtet und fotografisch registriert oder auch automatisch
gezählt werden können.

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