Page 220 - Zur Reinheit funktionaler Oberflächen

der Gewinde- oder Kontaktebene der Basis ab, um sicherzu-
stellen, dass der effektive Druck gegen die zu analysierende
Oberfläche immer etwa 5-6 Newton beträgt. Nach Beendigung
des Sammelns kann der obere Teil der Kapsel auf die Basis
geschraubt werden, und die so gesicherte Partikelprobe kann
dann in einem Labor mikroskopisch analysiert werden. Nach
der Messung oder Untersuchung gibt es zwei Möglichkeiten,
den Kollektor zu reinigen und wieder zu verwenden:
A - Die Kollektor-Platte wird etwa 5 Sekunden lang auf einen
Beschichtungsträger gedrückt, der mit einem Spezialkleber
aufgebracht wurde (PART-LIFT Cleaning Pad, als Zubehör
erhältlich). Die Kollektor-Platte wird dann durch langsames
Abziehen vom Beschichtungsträger gereinigt. Dieser Vorgang
kann bei Bedarf wiederholt werden.

B - Mit einem speziellen fusselfreien Tuch, das in einer etwa
50 : 50 %-igen Mischung aus DI-Wasser höchster Reinheit und
Isopropylalkohol getränkt wurde. Selbst die kleinen Partikel
können durch vorsichtiges Abwischen mit dem zuvor genann-
ten sauberen Tuch entfernt werden. Die meisten Tücher sind
jedoch für diesen Vorgang nicht wirklich sauber genug, so
muss möglicherweise eine Reinigung wie unter A beschrieben
folgen.
Der Partikel-Kollektor ist dann zur weiteren Verwendung
bereit. Die maximale Lebensdauer des Geräts hängt - wie bei
jeder Klebeschicht - von verschiedenen Umgebungsfaktoren
und natürlich von der Anzahl der durchgeführten Analysen ab.
Grundsätzlich kann man mit einer maximalen Lebensdauer von
2 Jahren rechnen.

13.2 Effektivität der Entfernung von Nach dem Abheben der Vorrichtung von der zu untersuchen-
Partikeln den Oberfläche sollte sich jetzt ein großer Teil der auf der
Oberfläche befindlichen Partikel zur Untersuchung auf der
Kollektor-Platte befinden. Wie groß dieser Prozentsatz ist,
hängt von den verschiedenen Oberflächenqualitäten ab. Das
Institut für Prozess- und Aerosol-Messtechniken der Univer-
sität Duisburg hat jedoch die Effektivität der Entfernung von
Partikeln des Kollektors auf einer polierten Siliziumscheibe
(Wafer) getestet.

13.3 Methode der Messung Eine Siliziumscheibe (Wafer) mit einer Oberflächen-Rauheit
von Ra 5 -10 nm war homogen mit fluoreszierenden Latex-
kugeln mit einem Durchmesser von 0,48 und alternativ von
0,21 µm bedeckt. Der so vorbereitete Wafer wurde auf einem
automatisierten XY-Tisch eines optischen Epifluoreszenz-Mikro-
skops zur computergesteuerten Positionierung fixiert. Der XY-
Tisch wurde an 468 Zufalls-generierten Positionen innerhalb
des zu untersuchenden Bereichs positioniert, und an jedem
von ihnen wurde die Menge der ermittelten Partikel aufge-
zeichnet. Nachdem der Partikel-Kollektor im Feld der Unter-
suchung auf dem Wafer eingesetzt worden war, wurden die

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