Page 221 - Zur Reinheit funktionaler Oberflächen

gleichen 468 verschiedenen Stellen, die zuvor auf Vorkommen
und Anzahl von Partikeln untersucht worden waren, erneut
untersucht und die gefundenen Partikel wurden aufgezeich-
net. Die Differenz zwischen den beiden Teilchenzahlen wird als
prozentuale Entfernungs-Effektivität des Partikel-Kollektors
ausgedrückt. Es wurden 5 Reihen mit jeweils 5 Messungen
erstellt, summiert also 25 Messungen auf einem Quadrat von
4 mm². Die Ergebnisse sind Tabelle 1 zu entnehmen.
Als Messung 3 der Serie 1 und Messung 3 der Serie 2 unver-
ständliche Abweichungen von den übrigen Daten zeigten,
stellte sich heraus, dass der Winkel des anfänglichen Kontakts
zwischen dem Kollektor und der zu analysierenden Oberfläche
für die Genauigkeit der Messdaten von Bedeutung ist. Wenn
der Winkel relativ zu dem Wafer etwa 90 Grad betrug, bildeten
sich Luftblasen zwischen der Kollektor-Platte und dem Wafer
und der enge Kontakt zwischen den beiden Oberflächen wurde
verhindert. Dadurch wurde die Anzahl der gesammelten Parti-
kel reduziert. Nachdem die Art des Berührens der Oberfläche
des Wafers auf einen Winkel von etwa 30 Grad geändert wurde
und der Kollektor langsam in eine aufrechte Position bewegt
wurde, zeigten die Daten der nachfolgenden 3 Untersuchungs-
reihe keine weitere Inkonsistenz (Tab. 1).

Serie der Messungen lfd. Nr. der Messun- Partikel-Größe in µm Position auf dem Effektivität der
gen Wafer Entfernung in %
1 1 0,48 oben 81,6
1 2 0,48 unten 82,3
1 3 0,48 mittig 44,4
1 4 0,48 rechts 84,9
1 5 0,48 links 93,1
2 1 0,48 oben 89,0
2 2 0,48 unten 80,5
2 3 0,48 mittig 29,1
2 4 0,48 rechts 81,1
2 5 0,48 links 44,1
3 1 0,48 oben 98,5
3 2 0,48 unten 96,3
3 3 0,48 mittig 84,6
3 4 0,48 rechts 95,2
3 5 0,48 links 94,1
4 1 0,21 oben 91,0
4 2 0,21 unten 90,9
4 3 0,21 mittig 90,0
4 4 0,21 rechts 91,8
4 5 0,21 links 94,8
5 1 0,21 oben 88,0
5 2 0,21 unten 91,3
5 3 0,21 mittig 87,1
5 4 0,21 rechts 88,9
5 5 0,21 links 88,0
Tab. 1 Ergebnisse der verschiedenen Untersuchungsreihen

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