Page 301 - Zur Reinheit funktionaler Oberflächen

für die Schaffung derartiger Oberflächen war das geeignete
Instrumentarium für die Visualisierung von deren Struktur
und Funktionalität bis hinein in den molekularen Größen-
Bereich. Zur Visualisierung von Oberflächen-Strukturen wurde
bis zum Ende der 70er-Jahre vor allem das Lichtmikroskop
eingesetzt. Dessen untere Abbildungsgrenze endet jedoch bei
einer Auflösung von etwa 200 nm. Das Lichtmikroskop wurde
vom Elektronen-Mikroskop abgelöst das bereits Auflösungen
von 0,13 nm schaffte. Das brachte eine deutliche Erweite-
rung der Abbildungs-Möglichkeiten mit sich. Erst das moderne
Atomkraft-Mikroskop jedoch bietet uns Auflösungen bis hinein
in den molekularen Größenbereich und zusätzlich auch die
Profildaten. Diese sind für die Darstellung von Oberflächen-
Artefakten unerlässlich. Im vorliegenden Aufsatz gezeigte
Oberflächen-Bilder entstanden mit Hilfe eines AFM-Mikroskops
(Abb. 1) der Nanosurf GmbH in Langen. Abb. 2 bis 9 zeigen
beispielhaft einige AFM-Bilder. Einige Abbildungen sind jedoch
auch mit dem Raster-Elektronenmikroskop gemacht worden
(Abb. 10 bis 16). Profile von Riefenbildungen zeigen Abb. 17
Abb. 1 Atomic Force Mikroskop, Abbilden und Messen bis
< 10 nm bis 19.

Abb. 2 Kunststoff-Brillenglas neu, keine Abb. 3 Kunststoff-Brillenglas neu, nach Abb. 4 Kunststoff-Brillenglas, bereits lange
Riefen und Kratzer Reinigung mit Partikel-verunreinigtem Tuch im Gebrauch

Abb. 5 Silikat-Brillenglas, bereits lange im Abb. 6 Silikat-Brillenglas, Lotus-Beschich- Abb. 7 Beschädigung einer DVD-Oberflä-
Gebrauch tung (wirkt schmutzabweisend) che durch Kanten-Berührung

301