Page 232 - Zur Reinheit funktionaler Oberflächen
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preiswerteren Verbrauchsmaterial auf die Produkt-Fertigungs-
kosten potentiell gesehen günstiger auswirken.
14.2.6 Prozess-spezifische Prozessrelevant in unserem Kontext ist lediglich diejenige Kon-
Kontaminations-Barriere tamination, die zum Fertigungs-Produkt gelangt und dort zur
Minderung der Prozessausbeute beiträgt. Seit dem Jahr 1985
ist Fortschritts-bedingt beispielsweise in der Chip-Fabrikation
der Anteil der Reinraum-generierten Kontamination auf Wafern
von 20 % auf unter 2,5 % gesunken [6] (Abb. 4). Diese
100 Reduzierung schließt sinngemäß auch die Verbrauchsmaterial-
90 induzierte Kontamination ein.
80
70 Auf dem Weg von den Reinraum-Verbrauchsmaterial-Oberflä-
60
Prozent 50 Mensch chen bis hin zu den Ausbeute-sensiblen Kern-Bereichen des
40
30 Maschine Prozesses wird die Partikel-Ausbreitung durch die Prozess-
20 Prozess spezifische Kontaminations-Barriere (PSKB) begrenzt [1, 2].
10 Reinraum Im Halbleiter-Fertigungs-Prozess beispielsweise konstituiert
0 sich die Prozess-spezifische Kontaminations-Barriere Prozess-
1985 1990 1995 2000
Jahr technisch betrachtet aus der hermetischen Isolation des
Source: CleanRooms Prozess-Geschehens (SMIF - Standard Mechanical InterFace),
dem laminaren Luftstrom sowie der Art, Anzahl und Dauer von
Abb. 4 Quellen der Wafer-Kontamination über die Zeit Spül- und Ätzvorgängen im Prozess und der turnusmäßigen
Reinhaltung der Reinraum-Oberflächen [7]. Auch die sphäri-
sche Ausbreitung der vorhandenen Partikel-Häufungen führt
zur Minderung der Kontaminationsdichte. Dies trifft insbe-
sondere auch für die Zunahme der räumlichen Entfernung
zwischen Fertigungs-Umfeld und Kernbereich zu.
14.2.7 Partikuläre Kontamination Die Verbrauchsmaterial-residenten Partikel lassen sich nach
Entstehungs-Ort gruppieren, etwa in Bewegungs-induzierte
Materialfragmente, solche aus Formatierungs-Prozessen, Mate-
rialabrieb durch Transport- und Fabrikations-Reibung, Kaut-
schuk-Abrieb und Stäube aus der Blasluft-Trocknung textiler
Produkte, partikuläre Waschmittel und Prozess-Wasser-Rück-
stände. Außer den genannten Partikelgruppen gibt es Sonder-
gruppen, die der getrennten Betrachtung bedürfen. Das sind
die Oligomere, d. h. Makromoleküle von geringer Kettenlänge,
die bei höheren Temperaturen aus den Polymer-Oberflächen
austreten. Außerdem gibt es die Gruppe der Mikroorganis-
men bzw. biotischen Partikel. Diese Gruppe spielt eine große
Rolle für die Medizin und Hygiene: Es handelt sich um Viren,
Bakterien und ihre Toxine sowie Pilze und Sporen. Eine weitere
ganz eigene Partikelgruppe sind Pollen mit ihrem ausgeprägten
Wachstums-Potential.
14.2.8 Oligomere - Partikel aus dem Bei der Erforschung der Ursachen partikulärer Kontamina-
Innern der textilen Struktur tion durch das Reinraum-Verbrauchsmaterial erfordert eine
bestimmte Partikel-Gruppe unsere besondere Beachtung.
Wenn wir in unserem Kontext Partikel-Kontamination erwäh-
nen, so meinen wir fast immer Partikel, die durch Einwirkung
von außen her auf das Verbrauchsmaterial gelangt oder Frag-
mente desselben sind. Oligomere hingegen sind Partikel, die
aus dem Herstellungs-Prozess der polymeren Filamente wie
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