Page 240 - Zur Reinheit funktionaler Oberflächen

Dekontaminations-Zeiten der Fertig-Gestricke zu bestimmen.
Dabei ist es vorteilhaft nach Oligomer- und anderen Partikeln
zu unterscheiden. Eine entsprechend genaue apparative Ana-
lytik kann hier gute Dienste tun. Dazu müssen die Oligomere
zunächst durch Immersion des Prüflings in kaltem Dioxan von
den Filamenten des Garns abgelöst werden. Hier ist es beson-
ders wichtig die Ablösungszeiten der Oligomere den Maschen-
dichten der betreffenden Gestricke anzupassen und darauf zu
achten, dass bei jeder Messung die gleichen Analysenzeiten
eingehalten werden. Wir empfehlen, die quantitative Oligome-
ren-Bestimmung mit Hilfe der UV-Spektroskopie bei einer Wel-
lenlänge von 240 bzw. von 254 nm durchzuführen. Für diese
Wellenlängen wurden sowohl ein Peak als auch eine Eichkurve
[19] erhalten. Es ist aber auch möglich die Oligomere mit Hilfe
der Dünnschicht-Chromatographie nach Valk, Stein und Dugal
(Kieselgelplatte 0,5 mm, Laufmittel Chloroform/Äther = 9:1)
zu bestimmen oder mittels der HPLC-Chromatographie.

14.3.6 Realität und Simulation filmischer Auf den Polyestergarnen aus denen ein großer Teil der
Kontamination Reinraum-Tücher, Swabs und auch die Reinraum-Bekleidung
besteht, so wie auf Handschuhen, finden sich aus den Herstel-
lungs-Prozessen u. a. die folgenden Chemikalien-Rückstände
(engl. NVR - Non-Volatile Residue): Silikonöl, DOP-Weich-
macher, Tensid- und Spinnöl-Rückstände sowie Amide. Beim
wischenden Reinigungsvorgang lösen sich im Zusammenhang
mit dem Gebrauch von Lösungsmitteln die genannten Chemi-
kalien-Rückstände von den Garn-Oberflächen und gelangen
vermittels der Flüssigkeits-Verteilung der Lösungsmittel-Anteile
auf die Objekt-Oberflächen. Chemikalien-Rückstände können
die Funktionalität von Halbleiter-Schaltkreisen, Speicherplat-
ten, Spiegelsystemen der Lasertechnik, optischen Gläsern
und vielen anderen technischen Systemen erheblich beein-
trächtigen. Um abzuschätzen welche Masse aus den diversen
Verbrauchsmaterialien beim wischenden Reinigen auf die
Objekt-Oberflächen gelangt, werden im Allgemeinen die im
textilen Gebilde enthaltenen Rückstände z. B. gemäß Methode
ASTM E1560-11 oder bei Reinraum-Handschuhen nach ASTM
Methode E1731 bestimmt. In der Praxis wird dieser Prüfan-
satz jedoch immer wieder zur Ursache grober Bewertungs-
fehler. Wenn z. B. in einem Wischmittel der Gesamt-Masse
von 8 Gramm vor der Dekontamination 1,6 g und danach
0,6 g nicht flüchtiger Rückstände enthalten sind, dann ent-
spricht dies etwa einer Masse von 10 g/cm -Tuchfläche. Auf
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der Wischmittel-gereinigten Oberfläche einer Quarz-Waage
messen wir bei ersten Versuchen jedoch lediglich 10 g/ cm
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Rückstände, also den 100ten Teil der im Wischmittel enthal-
tenen Rückstandsmenge. Dies erklärt die geringe Plausibilität
mancher der bisher gebräuchlichen Prüf-Ansätze. Der Erkennt-
nis-Stand hat sich mit der Verfügbarkeit Piezo-elektrischer
Waagen deutlich verbessert. Damit sind nun Wägungen im
Bereich von einigen Nanogramm möglich. Bisher war es nicht
leicht, die Masse zu bestimmen, die beim Wischvorgang vom
Tuch auf die Oberfläche gelangt. Es ist jedoch offensichtlich,

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