Page 242 - Zur Reinheit funktionaler Oberflächen
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um etwa das 100fache gesteigert wird [22]. Wie bereits an
                                                       anderer Stelle dieser Schrift erwähnt, besteht bei verschärften
                                                       Prüfbedingungen stets die Gefahr, dass die so gewonnenen
                                                       Messwerte als normal aufgefasst werden und es im Rahmen
                                                       einer generellen Vermeidungs-Strategie zu unnötigen, kos-
                                                       tenträchtigen Sicherheits-Vorkehrungen kommt. Auch beim
                                                       Parameter Ausgasung muss also gelten: Keine Ausgasung bei
                                                       Betriebs-Temperatur erfordert im Allgemeinen auch keine Maß-
                                                       nahmen zu deren Beseitigung. Selbst wenn sich die Ausgasung
                                                       bei höheren Temperaturen oder unter Hochvakuum-Bedingun-
                                                       gen deutlich bemerkbar macht.
                                                       Wesentlicher Nachteil jeder Summenparameter-Bestimmung -
                                                       hier z. B. mittels Quarzwaage - ist naturgemäß das Fehlen
                                                       spezifischer Stoffdaten. Andererseits macht es für viele
                                                       Anwender Sinn durch die Bestimmung der Gesamt-Ausgasung
                                                       einer Materialprobe erst einmal in Erfahrung zu bringen, ob die
                                                       Ausgasung für die betreffende Applikation überhaupt in einem
                                                       kritischen Massebereich ist. Scialdone und Montoya, US-NASA,
                                                       beschreiben daher in ihrem Aufsatz aus dem Jahr 2002 [24]
                                                       eine relativ einfache Vorrichtung (MOLIDEP) zur Bestimmung
                                                       des Masseverlusts durch Vakuum mit Hilfe einer Quarzwaage
                                                       und eines Restgas-Analysators.

                                                       Die Zukunft der Ausgasungs-Messung ist bestimmt durch die
                                                       Entwicklung hoch sensitiver gaschromatischer Säulen unter
                                                       Zuhilfenahme der MEMS-Technologie (Micro Electro Mechani-
                                                       cal Systems). Jinhai Sun et al. beschreiben in ihrem Aufsatz
                                                       [25] eine 6 m lange Säule mit inneren Abmessungen von
                                                       100 x 100 µm, die mit Hilfe der „Deep Reactive Ion Etching“
                                                       (DRIE)-Technologie gefertigt wurde.

                                                       Die Entwickler bemühen sich seit Langem darum, die Aus-
                                                       gasungs-Bestimmung größeren Anwenderkreisen zugänglich
                                                       zu machen indem sie wesentlich kleinere und preiswertere
                                                       Systeme als bisher vorstellen, welche sich in Fertigungsnähe
                                                       oder auch mobil betreiben lassen. Dabei beschreiten sie
                                                       im Prinzip zwei Wege: Die Messung des Summenparame-
                                                       ters Gesamt-Ausgasung mit Hilfe einer Quarzwaage und die
                                                       Messung einzelner VOCs mit Hilfe von MEMS.
                                                       Kürzlich erschienen erste MEMS-basierte Mini-Gaschromato-
                                                       graphen und Gasanalysatoren im mittleren ppm-Bereich zu
                                                       Preisen von einigen tausend Dollar [26, 27].

                                                       S. Zampoli et al. vom Istituto per la Microelettronica e di
                                                       Microsistemi in Bologna beschreiben in ihrer Arbeit [28] einen
                                                       MEMS basierten µ-Gaschromatographen für sub-ppb Konzent-
                                                       rationen zur Analytik komplexer VOC-Mischungen. Die Ent-
                                                       wickler haben dafür 3 unabhängige MEMS-Einheiten eingesetzt
                                                       und erreichen mit ihrem System Ansprech-Empfindlichkeiten
                                                       von 0,1 ppb.



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